Struktura stroje pro plazmové leptání

Zařízení ICP se skládá hlavně ze čtyř částí: předvakuové komory, leptací komory, systému přívodu plynu a vakuového systému.

(1) Před-vakuová komora

Funkcí předvakuové komory je zajistit, aby leptací komora byla udržována na nastavené úrovni vakua, nebyla ovlivňována vnějším prostředím (jako je prach, vodní pára) a izolovala nebezpečné plyny z čistého prostoru. Skládá se z krytu, manipulátoru, převodového mechanismu, izolačních dveří atd.

(2) Leptací komora

Leptací komora je základní strukturou ICP leptacího zařízení. Má přímý vliv na rychlost leptání, svislost leptání a drsnost. Hlavní součásti leptací komory jsou: horní elektroda, radiofrekvenční jednotka ICP, vysokofrekvenční jednotka RF, systém spodní elektrody, systém regulace teploty atd.

(3) Systém dodávky plynu

Systém přívodu plynu má dodávat různé leptací plyny do leptací komory a přesně řídit průtok plynu a průtok přes regulátor tlaku (PC) a regulátor hmotnostního průtoku (MFC). Systém zásobování plynem se skládá ze zdrojové láhve plynu, přívodního plynového potrubí, řídicího systému, směšovací jednotky atd.

(4) Vakuový systém
Existují dva vakuové systémy, jeden pro předvakuovou komoru a druhý pro leptací komoru. Předvakuová komora je evakuována mechanickým čerpadlem. Teprve když úroveň vakua v předvakuové komoře dosáhne nastavené hodnoty, lze otevřít izolační dvířka a přenést oplatku. Vakuum v leptací komoře zajišťuje mechanické čerpadlo a molekulární čerpadlo. Plyny vznikající reakcí v leptací komoře jsou také odsávány vakuovým systémem.